精细的氧化铝抛光粉制成用于化学机械抛光 (CMP) 工艺的浆料,具有快速的去除速率和受控的表面光洁度。微米级氧化铝粉末分散性好,切割力高,可用作抛光的水基悬浮液,可实现良好的表面和快速的去除速率。
我们提供广泛的抛光级氧化铝粉末,用于抛光不同的材料。3微米的氧化铝抛光粉可用于多种材料的粗糙和最终抛光。
细氧化铝抛光粉提供具有非常快的去除速率的优质抛光表面。
您可以通过添加纯水和添加剂将我们的精细氧化铝抛光粉制成浆料。
我们的氧化铝粉末制成浆料可以重复使用,它具有较长的浆料寿命,这有助于我们的客户降低成本。
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